金相磨抛机由基本部件组成,如底座、抛光板、抛光织物、抛光盖和盖子。电机固定在底座上,用于固定研磨抛光盘的锥套通过螺钉与电机轴连接。研磨抛光布通过套圈固定在研磨抛光板上,金相磨抛机通过底座上的开关打开电机启动后,可以用手对样品施加压力,对旋转的研磨抛光板进行研磨抛光研磨抛光过程中加入的研磨抛光液可以通过固定在底座上的塑料板中的排水管流入研磨抛光机旁边的方板中。研磨抛光罩和罩可防止机器不使用时灰尘等杂物掉落在研磨抛光织物上,影响使用效果。

金相磨抛机研磨抛光时,样品研磨面和研磨抛光板应平行并均匀轻轻压在研磨抛光板上,注意防止样品飞出和压力过大造成新的研磨痕迹。同时,样品也应沿转盘的半径方向旋转和来回移动,以避免抛光织物的局部磨损过快。在抛光过程中,应不断添加微粉悬浮液,以保持抛光织物处于一定湿度。湿度会削弱磨削和抛光的磨削痕迹效应,使样品中的硬质相表现出钢中非金属夹杂物和铸铁中石墨相引起的“拖尾”现象。如果湿度太小,样品会因摩擦生热而发热,润滑效果会降低,抛光后的表面会失去光泽,甚至会出现黑点,轻合金会损坏表面。为了达到粗抛光的目的,转盘的转速要求低,不超过500转/分钟。研磨和抛光时间应长于去除划痕所需的时间,因为变形层也应被去除。粗抛光后,抛光后的表面光滑,但不光滑,显微镜下观察到均匀细小的磨痕,需要通过精抛光去除。在精细抛光过程中,转盘的速度可以适当提高,研磨和抛光时间适于丢弃粗抛光的损坏层。抛光结束后,抛光后的表面像镜子一样明亮,在显微镜明亮的视野下看不到划痕,但在相差照明的条件下仍然可以看到抛光的痕迹。

金相磨抛机操作的关键是要获得抛光速率,以便尽快去除抛光过程中产生的损坏层。同时,研磨和抛光损伤层不会影响最终观察到的组织,即不会造成假组织。前者要求使用较粗的磨料以确保较高的抛光速率来去除抛光损伤层,但抛光损伤层也更深。后者要求使用精细材料使抛光损伤层变浅,但抛光速率低。解决这个矛盾的办法是把研磨和抛光分成两个阶段。粗抛光的目的是去除抛光的受损层。抛光速率应在此阶段设定。粗糙抛光造成的表面损伤是次要考虑因素,但也应尽可能小。第二种是精细抛光(或最终抛光),旨在消除粗糙抛光造成的表面损伤,并将磨损损伤降至最低。